Hochpräzise Messung der Waferdicke und der TTV‑Werte, Titelbild des Anwendungsbeispiels von Liyi Technology

Hochpräzise Messung der Waferdicke und des TTV-Werts

Im Wafer‑Herstellungs‑ und Dünnungsprozess sind die Gesamtdicke des Wafers sowie die TTV (Total Thickness Variation) entscheidende Parameter, die die Ausrichtung bei der Photolithografie und die Verpackungsausbeute beeinflussen. Traditionelle Kontaktmessungen sind ineffizient und bergen das Risiko, die Waferoberfläche zu zerkratzen. LightE setzt eine berührungslose optische Messlösung ein, um eine hochpräzise Höhenabtastung durchzuführen […]
Online‑Überwachung der Wafer‑Verkrümmung, Titelbild des Anwendungsbeispiels von Liyi Technology

Online-Erkennung von Wafer-Warping

Wafer neigen während des Herstellungsprozesses aufgrund thermischer Spannungen und materialbedingter Unterschiede zur Verformung, was die nachfolgende Handhabung, Belichtung und Laminierung beeinträchtigt. Mit herkömmlichen Stichprobenprüfungen lassen sich solche Abweichungen nur schwer rechtzeitig erkennen. LightE verwendet eine hochpräzise Verschiebungsmesslösung, um die Oberflächenprofilierung des Wafers berührungslos zu scannen und so rasch relevante Daten zu gewinnen.
Hochpräzise Prüfung der Oberflächenebenheit von Wafern, Titelbild des Anwendungsbeispiels von Liyi Technology

Hochpräzise Prüfung der Oberflächenebenheit von Wafern

Die Ebenheit der Waferoberfläche beeinflusst unmittelbar die Fokusgenauigkeit der Photolithografie sowie die Konsistenz der Bauelemente; selbst geringfügige topografische Veränderungen können Prozessfehler verursachen. LightE setzt eine berührungslose hochauflösende Messlösung ein, um die Waferoberfläche präzise zu scannen und sowohl die Ebenheit als auch lokale Topografien stabil zu erfassen, wodurch zuverlässige Daten für die Prozessoptimierung bereitgestellt werden.